成果详情
本产品采用先进工艺生产,完全采用自主设计的生产设备以及国产原材料,对国外的设备和原材料没有依赖性,具有独立知识产权,实现了100nm-1000nm球形二氧化硅的中试,通过选择表面修饰剂的种类,对球形二氧化硅的表面进行修饰和改性,具有高纯度、高球形度、单分散特性,在电子封装材料、超薄基板材料、涂料、消光剂、光亮剂等领域有广泛的应用。