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金属透明电极及其制备工艺
标 签:
金属透明电极,铟锡氧化物,金属网格透明电极,...
应用场景:
应用于智能手机和平板电脑的投射电容传感器
所 在 地:
北京市
成果水平:
应用阶段:
可以量产
成果属性:
原始创新
合作方式:
技术转让 独家授权 技术入股
价 格:
面议
成果详情
触摸屏渗透到越来越多的人机交互的设备中,而且未来将无所不在,仅就广泛应用于智能手机和平板电脑的投射电容传感器,市场就已经超过50亿美元并将在下一年增长到100亿美元。触摸屏都需要用到透明电极,最常用的透明电极是铟锡氧化物(ITO)。由于ITO的种种限制,现在人们都在寻找ITO的替代品,主流的替代材料有石墨烯,金属网格及纳米金属薄膜透明电极。
        本项目将开发设计出两种透明电极:第一种是基于纳米结构的金属网格透明电极。这种透明电极是基于纳米印刷(NIL)技术的一种周期性纳米结构金属线网格,具有高光学透明性,良好的导电性,产业化进行基于卷对卷的印刷工艺放大;另外一种是金属薄膜透明电极,采用在银膜上掺杂其他金属的方法,真空沉积工艺在线制备出透明电极。在实验室水平下,已经测试出这两种电极在OPV和OLED中的性能均优于ITO.
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