研发背景
项目简介:
PECVD（plasma enhanced chemical vapor deposition）—等离子体化学气相沉积， 在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子，提供化学气 相沉积过程所需的激活能，相对于其它 CVD 方法具有显著降低 CVD 薄膜沉积的温度等 优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成 单元。可以在不同气压和气体环境下进行 PECVD。（北京交通大学）

应用范围
应用范围：
该套设备是基于 PECVD 这一应用而研发的一套实验 装备。除此之外在等离子体发生、参数测定、应用机制等 多方面研究时均可得到广泛应用。

技术路线及原理
主要技术指标： 技术指标：输出电压波形：正弦波/脉冲波；输出电压幅值：0-10KV。

技术特色
技术特点: 1）自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号； 2）可实现 100~105 Pa 不同气压以及不同气体环境，且通过气体流量精确控制实现在任 一气压值稳定气压状态。 3）专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构，可长时间、稳定地生成 PECVD 用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构，可以对生成的等离子体和 PECVD 过程进行多种形式的监测。 4）该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计，符合产品要求。

经济效益分析
市场应用前景：
国内从事该领域研究的科研单位越来越多，增长速度 迅猛。而且等离子体技术尤其在灭菌和材料改性等领域的 市场需求也逐渐增多。但是目前国内在等离子体技术研究 和应用方面开展的相对较晚，相应的研究和应用设备多是从国外进口。部分科研单位和企业科研对系统中的部分单元进行自行开发，像以上所述的系统平台相对较少，所以具 有很好的市场前景。
投资规模：
涉及设备包括相关电力电子仪器和器件、高压绝缘和检测设备、等离子体发生设备， 等离子体应用领域相关设备和材料。场地要求尽可能宽敞。研发资金目前已投入五十万 元左右，人员包括一名副教授、一名科研助理、硕士研究生 4 名，技术工程师 5 名。
知识产权归属情况：
独家自主。