研发背景
本发明涉及一种激光陀螺反射镜薄膜的镀制方法，特别是关于一种在未达到埃量级超光滑基片上镀制高反射膜系的镀制方法。

应用范围
激光陀螺反射镜薄膜

技术路线及原理
本发明激光陀螺反射镜薄膜的镀制方法通过采用离子束溅射沉积技术制备多层氧化物光学薄膜时，每镀完高折射率层(如高反膜系中的1、3、5等奇数层为高折射率层)，暂停一段时间，再采用氧氩混合离子束对镀膜表面进行处理，再暂停一段时间后，进行下一层的镀制，依次循环直至镀完所有膜层。

技术特色
本发明激光陀螺反射镜薄膜的镀制方法有助于降低膜层的吸收损耗和体散射损耗，从而在未达到埃量级超光滑的基片上制备出高质量低损耗的反射镜。同时具有操作简单、成本较低、经济性较好的特点，具有较高的实际应用价值。

经济效益分析
无